第31卷第6期2010年12月大連交通大學學報ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＤＡＬＩＡＮＪＩＡＯＴＯＮＧＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹＶｏｌ。31Ｎｏ。6Ｄｅｃ。2010文章編號:1673-9590(2010)06-0079-04酞菁銅薄膜制備及其光學性能劉向1,劉惠2,薛鈺芝1,王克非1(1。上海交通學院材料科學與工程大學,江蘇南京;2。上海理工學院電氣信息大學,廣東上海)＊摘要:采用真空蒸發的方式在ＩＴＯ玻璃上制備了ＣｕＰｃ薄膜,并用分光光度計(Ｕ-3310)測試了四種不同長度的ＣｕＰｃ薄膜的透射/吸收/反射率隨波長變化情況,重點剖析了其中的吸收規律。結果顯示波段在340～370ｎｍ和570～720ｎｍ光吸產率基本上在90%左右,在480ｎｍ吸產率最低,大部份光都已透射。同時用掃描電子顯微鏡對薄膜進行了成份剖析,對照能譜圖可以看出樣品中富含碳、氧、銅等元素,與酞菁銅薄膜元素組成成份相符。關鍵詞:酞菁銅;半導體薄膜;真空蒸發鍍膜文獻標示碼:Ａ0序言酞菁類化合物因具有一些特殊性質如半導體特點、光濁度體性等,相當長一段時間里遭到了人們的廣泛關注。
在可見光區除了吸收范圍寬、吸收系數大,并且具有極好的物理、熱及光穩定性[1-3]。ＣｕＰｃ薄膜在有機發光元件、有機太陽能電板[4-5]、靜電打印感光鼓等方面具有廣泛的應用前景,國外外對ＣｕＰｃ薄膜的光敏性、氣敏性和非線性等作了較多的研究[6-8],但對于長度與光學特點的關系研究的較少,本文采用蒸發的方式得到酞菁銅薄膜,研究了不同長度與薄膜透射、反射和吸收的關系。1實驗方式本文研究的酞菁銅薄膜采用廣州儀器廠生產的ＤＭＸ-220Ａ大型鍍膜機制備。襯底氣溫為溫度,襯底采用ＩＴＯ玻璃片。酞菁銅原料采用北京百靈威的酞菁銅試劑,經過多次升華提純得到的高含量酞菁銅粉末薄膜制備,含量達到99。9%以上。在鍍膜過程中工作室真空度保持在(2～3)×10-3Ｐａ。蒸發舟用自制的寬2ｃｍ的鉬片,蒸發電壓控制在一定的范圍內。本實驗表面形貌所采用的是ＪＳＭ-6360ＬＶ型高低真空掃描電子顯微鏡,放大倍數達80000倍。薄膜的吸收波譜紫外、可見分光光度計(Ｕ-3310)剖析。采用ＣＨＦ-ＸＭ500氙氣模擬太陽光做為光源,微電壓的檢測用“Ｋｅｔｈｅｌｙ6485ｐｉ-ｃｏＡｍｍｅｆｅｒ”,測試環境均在溫度下進行。
2結果剖析2。1薄膜吸收/透射/反射的測量實驗采用紫外、可見分光光度計(Ｕ-3310),Ｕ-3310型的分光光度計由光源、分光系統、測量系統和接收顯示系統組成,光源燈由電子穩壓裝置供電;分光系統是儀器的核心,由狹縫、準半徑和棱鏡組成;檢測系統由推拉架、比色皿架和暗室組成;接收顯示系統由光電管接收,經電子線路放大,再由水表指示。圖1為透射率檢測裝置簡圖。圖1透射率檢測裝置簡圖＊收稿日期:2010-03-15作者簡介:劉向(1979-),男薄膜制備,講師,博士研究生,主要從事新型光電元件、光伏系統的研究Ｅ-ｍａｉｌ:ｌｉｕｘｉａｎｇ@ｄｊｔｕ。ｅｄｕ。ｃｎ。